校准分析艺术品中的高光谱仪器


校准分析艺术品中的高光谱仪器

高光谱成像已经成为分析艺术作品中越来越常用的工具。然而,所获取数据的质量以及对该数据的处理,以产生准确且可再现的光谱图像立方体,可能使许多文化遗产保护者面临挑战。为了从高光谱成像中获得有用且相关的结果,必须对光谱和空间上的数据进行校正。当用于颜料映射,隐藏特征的检测,变化检测或用于定量光谱记录时,过于嘈杂或不准确的数据将产生次优的结果。因此,为帮助解决这一问题,我们将检查艺术品所需的特定采集和校准工作流程。这些工作流程包括在采集过程中必须解决的关键参数,以及为全面校准高光谱数据所需的后处理各个阶段的关键步骤和因素。此外,我们将详细研究影响数据质量的关键因素,并提出可以对整体高光谱图像质量产生重大影响的实用解决方案。  

为了能够获得定量光谱数据,必须使用已知参考将获取的光谱归一化为绝对反射系数。为此,必须在用于艺术品本身的采集的相同操作条件和采集参数下,对已知的反射率标准板或一组反射率标准板进行采集。这些条件包括照明水平,积分时间,扫描速度,采集几何形状,相机增益设置等。

理想的参考目标板是均匀且漫反射的朗伯平面,它们在宽光谱范围内具有恒定的反射率。采用的通常是耐用且化学惰性的PTFE(聚四氟乙烯)靶,其中业界使用广泛的是Labsphere Inc.制造的Spectralon®。通常使用单一反射率标准板,实际上,大多数RRT参与者采集单一的99%参考标准板图像。

但是,通常通过获取一套不同反射率漫反射目标板来提高辐射度校准的质量。就漫反射目标板举例说明。同样,漫反射目标板所获取的参数必须与扫描绘画时的一致,不论是顺序的还是单独的。



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